Dünne Schichten
Beschichten: Technologien und Anlagen für Grossserien
Elektronenstrahlbedampfung und thermische Bedampfung
Um optische Komponenten und Substrate für lithografische Prozesse zu beschichten, hat sich die Bedampfung im Vakuum durch Elektronenstrahlverdampfer oder thermische Verdampfer etabliert. Mit dieser Technologie lassen sich eine Vielzahl von metallischen Schichten wie Chrom, Aluminium, Gold, Titan, Schwarzchrom (Low Reflection Chrome) und andere Metalle in sehr guter Qualität und Schichtdicken von wenigen Nanometern bis mehreren hundert Nanometern herstellen.
Mit einer Erweiterung des thermischen Verdampfens und Elektronenstrahlverdampfens durch Substratbeheizung bei 100 bis 300 °C oder durch eine Plasmaquelle lassen sich auch optische Beschichtungen, sogenannte Interferenzschichten, in hoher optischer Qualität herstellen. Diese erfüllen verschiedene Funktionen, wie zum Beispiel Entspiegelungsschichten, optische Filter wie Bandpassfilter, UV- oder IR-Filter, Farbfilter, Fabry-Perot-Filter, Strahlteiler oder dielektrische Spiegel.
Beschichtungsanlagen für PVD und Magnetron-Sputtern
Format: 200mm-Wafer
Batchgrösse: </= 16 Wafer
Substratmaterial: Fused Silica, B270, Borofloat, D263, andere Materialien auf Anfrage
Dicke: >0,3 mm
