Fotomasken

Fotomasken

Grossformatig: Fotomasken als Schlüsselelemente in der Halbleiterindustrie

Früher wie heute sind Fotomasken Schlüsselelemente der Halbleiterindustrie. Sie kommen vorwiegend in Wafer-Steppern (Maskenprojektionslithografie) oder im Mask Aligner (Schattenwurflithografie) zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen (Mikrochips) zum Einsatz.

Die Herstellung von Fotomasken erfolgt bei IMT mit zwei Direct-Writing-Lasermaschinen (DWL). Die Technologie erlaubt es uns, Masken zwischen 9 x 9 und 24 x 32 Zoll herzustellen, und wir nutzen die Technik zur Herstellung von Masken für den Mask Aligner.

Die Wahl des Substrats hängt in erheblichem Mass von der Endanwendung ab. Für Umgebungen mit starken Temperaturschwankungen beispielsweise werden Substrate mit geringem thermischem Ausdehnungskoeffizienten (Zerodur, Fused Silica) verwendet.

Grossformatige Fotomaske | Fotomasken

Grossformatige Fotomaske

Wir sind für Sie da:

IMT Masken und Teilungen AG
Im Langacher
8606 Greifensee
Schweiz

T +41 44 943 19 00
F +41 44 943 19 01
info@imtag.ch

Bitte warten …
IMT Masken und Teilungen AG